China está avanzando de forma silenciosa pero decidida hacia la independencia tecnológica frente a Occidente mediante un proyecto altamente confidencial que podría redefinir el equilibrio global de la industria de los semiconductores. En un laboratorio de máxima seguridad ubicado en Shenzhen, un grupo de científicos e ingenieros ha construido el prototipo de una máquina de litografía EUV, considerada la pieza más crítica y compleja para la fabricación de chips de última generación, una tecnología a la que China ha sido excluida durante años por las restricciones impuestas por Estados Unidos y sus aliados. 

Fuentes cercanas al desarrollo describen la iniciativa como el “Proyecto Manhattan” chino, en alusión al histórico programa estadounidense que cambió el curso de la Segunda Guerra Mundial. Este esfuerzo forma parte central de la estrategia de autosuficiencia tecnológica impulsada por el líder del Estado y del Partido Comunista, Xi Jinping, quien ha definido la soberanía en semiconductores como una prioridad nacional.

El prototipo fue completado a comienzos de 2025 y actualmente se encuentra en fase de pruebas avanzadas, ocupando prácticamente una planta industrial completa debido a la enorme complejidad y tamaño del sistema. El desarrollo fue llevado a cabo por un equipo integrado, en parte, por antiguos ingenieros vinculados a ASML, la empresa neerlandesa que hasta ahora ha sido la única capaz de producir máquinas EUV operativas a escala comercial. Según personas familiarizadas con el proyecto, estos especialistas lograron recrear buena parte del diseño original mediante ingeniería inversa, apoyándose tanto en conocimiento acumulado como en componentes obtenidos de antiguas máquinas ASML adquiridas y desmontadas a través de mercados secundarios.

El sistema ya es capaz de generar luz ultravioleta extrema, el corazón de la tecnología EUV, aunque todavía no ha producido chips funcionales. La litografía EUV se encuentra en el centro de una auténtica guerra fría tecnológica entre China y Occidente. Esta tecnología permite grabar circuitos miles de veces más delgados que un cabello humano y resulta indispensable para fabricar los procesadores más avanzados utilizados por compañías líderes del sector. Cada máquina EUV tiene un costo aproximado de 250 millones de dólares y su desarrollo requirió décadas de investigación y miles de millones en inversión.

Hasta ahora, el dominio de esta tecnología había sido un monopolio absoluto de ASML, con componentes clave suministrados por proveedores europeos de altísima precisión. Tan recientemente como abril, el director ejecutivo de ASML, Christophe Fouquet, había afirmado públicamente que China necesitaría muchos años para cerrar la brecha tecnológica. Sin embargo, la existencia de este prototipo sugiere que el avance chino podría ser más rápido de lo previsto, incluso enfrentando obstáculos enormes como la reproducción de sistemas ópticos de precisión extrema, tradicionalmente fabricados por empresas occidentales como Zeiss.

Para superar estas barreras, un equipo de aproximadamente cien jóvenes ingenieros, en su mayoría recién graduados, trabaja bajo estrictos controles de seguridad y confidencialidad, con incentivos económicos para quienes logran avances clave. El objetivo oficial del proyecto es comenzar a producir chips funcionales a partir de 2028, aunque dentro del propio programa se reconoce que 2030 podría ser un horizonte más realista. Aun así, esta fecha estaría muy por delante de las previsiones que manejaban analistas internacionales hace apenas unos años.

En este entramado, el gigante tecnológico Huawei desempeña un papel central, coordinando una red nacional de empresas, universidades e institutos de investigación que involucra a miles de ingenieros en todo el país. Este proyecto representa el punto culminante provisional de una estrategia nacional de autosuficiencia en semiconductores que China ha venido construyendo durante al menos seis años.

Más allá del aspecto técnico, el desarrollo tiene profundas implicaciones geopolíticas, ya que amenaza con erosionar una de las principales palancas de presión tecnológica de Occidente. Si China logra dominar la litografía EUV, el impacto no solo se sentirá en la industria de los chips, sino también en el equilibrio de poder global, marcando un antes y un después en la competencia tecnológica del siglo XXI.